第221章 你看你能排第几啊

  去年科技部牵头的专项刚刚突破了二十八纳米製程，正在往十四纳米的方向死磕。

  但所有人都知道，越往后越难。

  光学系统、精密运动台、光源、光刻胶，每一个子系统都是一座大山，而最难的还不是这些，是光刻工艺背后的物理模型和计算理论。

  国外几大光刻机厂商用了几十年时间、烧了几千亿资金建立起来的理论体系，对华国是彻底封锁的，根本不让你看到门里面的东西。

  国內的研究团队只能在公开文献的只言片语里拼凑线索，很多时候甚至不知道自己的方向对不对，就像在一间漆黑的屋子里摸索一扇不知道在哪面墙上的门。

  高长平把这段时间压在心里的话，一五一十地倒了出来。

  “咱们科技部牵头的光刻机专项，十四纳米製程的攻关已经卡了快半年了。

  可是底层的光学邻近效应修正模型就是算不准。

  同样的掩模设计，国外设备的成像偏差能控制在两纳米以內，而我们的偏差是他们的三倍以上。

  偏差一大，晶片的良率就上不去，良率上不去，成本就降不下来，整个產业链就转不动。”

  他说到这里，声音不自觉地沉了下去。

  “华科院的团队试了各种方法，把能调的参都调了一遍，把能改的算法都改了一轮，效果都不理想。

  后来他们发现，问题不出在工程上，而是出在物理模型本身。

  他们用的那套模型，底层数学工具还是二十年前的东西。”

  这些东西二把手都清楚，可惜要改变不是一朝一夕的。